鈣鈦礦蒸鍍設備
小型實驗設備（蒸發(fā)/磁控）
產品特點
技術參數(shù) | |
|---|---|
| 設備型號 | ZZDS500 蒸發(fā)鍍膜手套箱系統(tǒng) |
| 極限真空 | 5×10-5Pa |
| 抽速 | 大氣~5×10-4Pa≤15min |
| 蒸發(fā)源 | 6個，金屬/有機數(shù)量任意搭配 |
| 蒸發(fā)源類型 | 蒸發(fā)舟or有機、金屬束源爐 |
| 樣品尺寸 | 210×210mm，向下兼容 |
| 膜厚均勻性 | ≤±3% |
| 均勻性判定 | （Tmax-Tmin）/（Tmax+Tmin）×100% |
| 蒸發(fā)距離 | 450mm~550mm可調 |
| 樣品溫控 | 單加熱模式：室溫~300℃可調 單水冷模式：10~25℃可調 冷熱雙溫模式：10~200℃可調 |
技術參數(shù) | |
|---|---|
| 設備型號 | ZCJS500 磁控濺射手套箱系統(tǒng) |
| 極限真空 | 5×10-5Pa |
| 抽速 | 大氣~5×10-4Pa≤15min |
| 濺射靶 | 3或4英寸靶，數(shù)量≤3 |
| 濺射電源 | 射頻/中頻脈沖/直流 |
| 樣品尺寸 | 150×150mm，向下兼容 |
| 膜厚均勻性 | ≤±5% |
| 均勻性判定 | （Tmax-Tmin）/（Tmax+Tmin）×100% |
| 濺射距離 | 100mm~±30mm可調 |
| 樣品溫控 | 單加熱模式：室溫~300℃可調 冷熱雙溫模式：10~200℃可調 |
